粒子偏转面

Particles Deflector 是一个表面场，没有视觉表示，但物理上与粒子系统(其他对象不受影响)相互作用，阻挡粒子的道路，使它们从偏转面的表面反弹。根据指定的尺寸，它可以是矩形或正方形，并且可以任意放置或旋转以覆盖必要的区域。

偏转面是单边，这意味着粒子只能与一侧相互作用（例如，当从上方落在偏转面上时，而从相反的一侧自由通过它们）。

添加粒子偏转面#

要通过UnigineEditor添加一个Particles Deflector到世界，请执行以下操作:

在主菜单中，选择Create -> Particle System -> Particles Deflector。
将Particles Deflector放置在世界中以覆盖要切割颗粒的区域。

注意
确保为应用于草或水的材质设置了Spacer interaction标志。

在Particles Field Deflector部分(Parameters窗口→Node选项卡)中，Particles Deflector的以下参数可以调整:

Size	偏转面平面的尺寸
Restitution	Particles Field Deflector的恢复系数。该系数定义了粒子在与偏转面接触时接收到的弹跳脉冲的值(粒子从偏转面弹跳的速度): 最小值为 0 表示粒子不反弹，而是沿着偏转面滑动。最大值为 1 使弹跳的角度等于粒子下落的角度。
Roughness	Particles Field Deflector 的粗糙度系数。该系数定义了粒子与偏转面碰撞表面的粗糙度，以及粒子从偏转面反弹的角度范围: 最小值为 0 表示表面光滑，弹跳粒子均匀分散。最大值为 1 表示表面不平整，弹跳粒子向不同方向分散。
Interaction Particle Mode	为Particles Field Deflector交互模式。交互可以触发一个联系人的偏转与粒子的中心位置或与其边界框(例如，这可能是有用的在长度的情况下粒子)。

下面列出的位掩码使您能够微调 Particles Field 的相互作用和功能，以达到预期的效果和优化性能。

Particles Field Mask	位掩码使您能够控制Particles Deflector与粒子的相互作用。只有当粒子系统生成的粒子都具有匹配掩码时，Deflector才会影响它们。
Viewport Mask	Viewport 掩码。用于在当前视口中渲染 Particles Deflector 的位掩码。对于要渲染到视口中的 Particles Deflector，其掩码应与相机 Viewport 掩码相匹配（至少一位）。这可用于有选择地禁用特定摄像机视图的 Deflector 功能，而无需禁用 Deflector 本身（例如，当汽车是从上面看的）。

最新更新: 2024-12-13

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