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粒子偏转面

Particles Deflector 是一个表面场,没有视觉表示,但物理上与粒子系统(其他对象不受影响)相互作用,阻挡粒子的道路,使它们从偏转面的表面反弹。根据指定的尺寸,它可以是矩形或正方形,并且可以任意放置或旋转以覆盖必要的区域。

偏转面是单边,这意味着粒子只能与一侧相互作用(例如,当从上方落在偏转面上时,而从相反的一侧自由通过它们)。

另请参阅#

添加粒子偏转面#

要通过UnigineEditor添加一个Particles Deflector到世界,请执行以下操作:

  1. 在主菜单中,选择Create -> Particle System -> Particles Deflector

  2. Particles Deflector放置在世界中以覆盖要切割颗粒的区域。

    注意
    确保为应用于草或水的材质设置了Spacer interaction标志。

编辑粒子偏转面#

Particles Field Deflector部分(Parameters窗口→Node选项卡)中,Particles Deflector的以下参数可以调整:

调整导流板形状#

Size 偏转面平面的尺寸
Restitution

Particles Field Deflector的恢复系数。该系数定义了粒子在与偏转面接触时接收到的弹跳脉冲的值(粒子从偏转面弹跳的速度):

  • 最小值为 0 表示粒子不反弹,而是沿着偏转面滑动。
  • 最大值为 1 使弹跳的角度等于粒子下落的角度。
Roughness

Particles Field Deflector 的粗糙度系数。该系数定义了粒子与偏转面碰撞表面的粗糙度,以及粒子从偏转面反弹的角度范围:

  • 最小值为 0 表示表面光滑,弹跳粒子均匀分散。
  • 最大值为 1 表示表面不平整,弹跳粒子向不同方向分散。
Interaction Particle Mode

Particles Field Deflector交互模式。交互可以触发一个联系人的偏转与粒子的中心位置或与其边界框(例如,这可能是有用的在长度的情况下粒子)。

设置位掩码#

下面列出的位掩码使您能够微调 Particles Field 的相互作用和功能,以达到预期的效果和优化性能。

Particles Field Mask 位掩码使您能够控制Particles Deflector与粒子的相互作用。只有当粒子系统生成的粒子都具有匹配掩码时,Deflector才会影响它们。
Viewport Mask Viewport 掩码。 用于在当前视口中渲染 Particles Deflector 的位掩码。 对于要渲染到视口中的 Particles Deflector,其掩码应与相机 Viewport 掩码相匹配 (至少一位)。 这可用于有选择地禁用特定摄像机视图的 Deflector 功能,而无需禁用 Deflector 本身(例如,当 汽车是从上面看的)。
最新更新: 2024-08-16
Build: ()