AmbientMapper（环境映射）

环境映射用来生成用于低聚网格的环境遮挡图。其会对全方向的“天空光”及附近几何的光线衰减及闭塞的自身阴影进行计算，然后将阴影烘焙成纹理添加到模型的真实遮蔽中。

要创建环境闭塞贴图，需完成下列步骤：

1. 加载低聚合网格，环境闭塞会为此网格进行计算，点击Load Low进行计算。
2. 通过Load High加载参照高聚合网格。此步骤为可选步骤。如果加载的是高聚合网格，将使用其对低聚合网格的环境闭塞进行计算。
3. 转换到某个视窗中的 Ambient Map。
4. 必要时，通过Load Cage加载笼状网格。
5. 必要时，通过Load Env加载环境网格。
6. 在窗口的右边设置环境闭塞 选项 。
7. 点击Run 开始进行计算。
8. 完成环境贴图的计算后，点击Save。

环境映射有两种查看窗格。可在每个窗格左上角的下拉列表中对显示模式进行切换：

Mesh 用于显示 低聚网格。 Normal Map 用于显示加载的法线贴图，此法线图被应用到低聚网格中。如果不存在加载的法线贴图，那么默认情况下会显示出一个空的单通道（红色）贴图。 Ambient Map用于显示生成的环境闭塞贴图，此图应用到低聚网格上。 TexCoord 0 用于显示基于first UV set生成的环境贴图。 TexCoord 1 用于显示基于second UV set生成的环境贴图。 Cage Mesh 用于显示笼状网格。 High Mesh 用于显示 高聚网格。

文件选项集显示在窗口的右边：

Load Low	加载低聚网格，环境闭塞会为此网格创建环境闭塞贴图。 低聚网格 注意 可通过 Ctrl+O组合键加载低聚网格。
Load High	加载高聚网格，基于此网格会对环境闭塞贴图进行烘焙。 高聚网格 注意 可通过Ctrl+H组合键加载高聚网格。
Load Cage	加载笼状网格。这种网格可以对环境闭塞贴图进行更清晰的烘焙。 如果没有笼状网格，光线会从低聚网格投射到高聚网格（沿着低聚网格法线的两个方向进行投射）。这样做能决定高聚网格中（完整几何可以对适当的环境闭塞进行计算）的哪些点与低聚网格中的点相对应。无论什么点最先被横切，它都将被烘焙到贴图中。然而如果在高聚模型或重叠表面内有复杂的几何细节，那么说明首个相遇点不合适。离低聚网格最近的底面会被烘焙到贴图中，而不是对外围面进行烘焙。 可使用笼状来避免这种情况的发生。在加载时，会对来自笼状的射线进行追踪而不对来自低聚的射线进行追踪。 笼状网格通常为低聚网格，显得稍微有些浮肿比其真实尺寸略大，覆盖了高聚和低聚网格（参看下图）。虽然即使是一个简单的盒子也会这样做。 没必要覆盖所有的网格体积。可为局部笼状- 仅在发现的复杂几何细节面上。 笼状网格 一个包含高聚和低聚模型的笼状(在网格观察器中查看) 例如如果我们在表面上使用铆钉设置了一个笼子，那么我们将获得所有细节正确的环境闭塞。如果没有笼子，就会出现视觉伪迹。 无笼状网格的AO 。细节未得到正确的烘焙。 有笼子网格的AO。所有铆钉都得到合适的闭塞。 注意 可通过Ctrl+C组合键加载笼状网格。
Load Env	加载环境网格。此选项可以加载额外的几何体，此几何体会将用于源网格的光线进行闭塞，进行遮蔽。对于环境网格自身，环境闭塞并未得到计算。 环境网格 例如，如果闭塞网格是某些建筑物的一部分，那么后者可作为环境网格而得到加载。此处您可以看到网格毗邻更大的框架。有了此选项，网格背面将被进行遮蔽处理。 来自背面的闭塞及环境网格 使用环境网格的AO 注意 可通过Ctrl+E组合键加载环境网格。
Normal Map	法线图可在不使用高聚网格的情况下对环境闭塞进行计算。其使用来自贴图的法线对光线照射到网格表面的方式进行计算。 如果高聚合法线纹理都得到呈现，那么其将创建一幅更准确的环境闭塞图，图的边缘更柔和。 仅使用法线图计算AO 注意 可通过Ctrl+N加载环境网格。
Reload All	重新加载所有已加载过的资源。 注意 可通过 Ctrl+R组合键重新加载资源。
Run	执行环境闭塞计算。应用到模型上的结果可在 Ambient Map模式中进行查看。
Save	将计算的环境闭塞贴图保持为纹理。参看支持格式一文，此文讲述了纹理可被保持的格式。 DXT1 compression - 如果某种纹理被保存为.dds格式，使用此选项可将此纹理自动进行压缩。如果指定了另外一种格式，此选项会被忽略。 注意 可通过Ctrl+S组合键对网格进行保存。

可视化选项集：

环境闭塞选项集：

Size	输出环境贴图的尺寸。
AA	用于输出环境贴图的抗混淆模式。如果使用此模式，会占用额外内存。 值越高，环境贴图越软越模糊。 无抗混淆的AO 使用抗混淆的AO
TexCoord	用于存储环境贴图的UV通道。为了能在第二个UV通道内存储贴图，模型也应相应地被导出。
Samples	取样光线的数量，从网格的每个点对这些光线进行追踪用来计算环境闭塞。如果某束光线照射到某些几何体上，这意味着光线被闭塞处理因此测试点应被遮蔽。如果返回的闭塞光线越多，最后的遮蔽效果就越暗。 数值越高，环境贴图的纹理就越少，对其进行计算所花费的时间就越长。 取样数 = 16 取样数 = 1024
Radius	对光线进行追踪的距离。确切地说，这是一个半球的半径，在此半径范围内取样光线的数量会在任意方向进行追踪。 可使用小半径实现细节的尖锐暗黑闭塞。 可使用大半径来获取整个网格的闭塞。不会存在明显的细节处。对AO的计算过程会花费更长的时间。 半径 = 0.1 半径 = 2
Power	环境闭塞项的能力值。值越高，最终的环境闭塞就越亮。 能力值 = 0.1 能力值 = 3
Extrude	像素中的突出部分。此选项可在UV外壳的轮廓附近添加彩色像素。简单地将颜色值从邻近像素中拷贝出来。在缝隙连接区域，可使用此选项来处理可能变暗的地方。 环境贴图的尺寸越小，沿着缝隙处的可见暗处就越多。增加Extrusion的参数值可以在这种情况下起到一定的作用。 Extrusion（突出） 突出 = 0 像素 突出 = 3 像素

支持的几何数据格式：

• Unigine 网格(.mesh)
• Unigine 蒙皮网格(.smesh)
• 波前 (.obj)
• 可拉大风 (.dae)

支持的纹理格式：

• Targa (.tga)
• 便携式网络图像格式 (.png)
• JPEG (.jpg)
• Photoshop 文件 (.psd)
• 直接绘制表面 (.dds)
• 便携式像素图 (.ppm)
• 便携式Graymap (.pgm)
• 高动态范围(.hdr)
• Silicon 图形图像 (.sgi)

• Ctrl+O — 加载低聚网格。
• Ctrl+H — 加载 高聚网格。
• Ctrl+C — 加载笼状网格。
• Ctrl+E — 加载 环境网格。
• Ctrl+N — 加载 法线图。
• Ctrl+R — 重新加载 所有资源。
• Ctrl+S — 保持 环境贴图。
• I — 切换网格信息。
• C — 切换XYZ指南针。
• T — 切换基础网格。
• G — 对从网格到相机的中心点进行重置。