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AmbientMapper(环境映射)

警告
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环境映射用来生成用于低聚网格的环境遮挡图。其会对全方向的“天空光”及附近几何的光线衰减及闭塞的自身阴影进行计算,然后将阴影烘焙成纹理添加到模型的真实遮蔽中。

AmbientMapper module

用法

要创建环境闭塞贴图,需完成下列步骤:

  1. 加载低聚合网格,环境闭塞会为此网格进行计算,点击Load Low进行计算。
  2. 通过Load High加载参照高聚合网格。此步骤为可选步骤。如果加载的是高聚合网格,将使用其对低聚合网格的环境闭塞进行计算。
  3. 转换到某个视窗中的 Ambient Map
  4. 必要时,通过Load Cage加载笼状网格。
  5. 必要时,通过Load Env加载环境网格。
  6. 在窗口的右边设置环境闭塞 选项
  7. 点击Run 开始进行计算。
  8. 完成环境贴图的计算后,点击Save

警告
AmbientMapper被设计为仅能在第一个UV平铺区域内工作(纹理坐标[0;1])。多个UV平铺会被忽略。

显示模式

环境映射有两种查看窗格。可在每个窗格左上角的下拉列表中对显示模式进行切换:

  • Mesh 用于显示 低聚网格
  • Normal Map 用于显示加载的法线贴图,此法线图被应用到低聚网格中。如果不存在加载的法线贴图,那么默认情况下会显示出一个空的单通道(红色)贴图。
  • Ambient Map用于显示生成的环境闭塞贴图,此图应用到低聚网格上。
  • TexCoord 0 用于显示基于first UV set生成的环境贴图。
  • TexCoord 1 用于显示基于second UV set生成的环境贴图。
  • Cage Mesh 用于显示笼状网格
  • High Mesh 用于显示 高聚网格

文件选项

文件选项集显示在窗口的右边:

Load Low 加载低聚网格,环境闭塞会为此网格创建环境闭塞贴图。

Low-poly mesh

低聚网格
注意
可通过 Ctrl+O组合键加载低聚网格。
Load High 加载高聚网格,基于此网格会对环境闭塞贴图进行烘焙。

High-Poly mesh

高聚网格
注意
可通过Ctrl+H组合键加载高聚网格。
Load Cage 加载笼状网格。这种网格可以对环境闭塞贴图进行更清晰的烘焙。

如果没有笼状网格,光线会从低聚网格投射到高聚网格(沿着低聚网格法线的两个方向进行投射)。这样做能决定高聚网格中(完整几何可以对适当的环境闭塞进行计算)的哪些点与低聚网格中的点相对应。无论什么点最先被横切,它都将被烘焙到贴图中。然而如果在高聚模型或重叠表面内有复杂的几何细节,那么说明首个相遇点不合适。离低聚网格最近的底面会被烘焙到贴图中,而不是对外围面进行烘焙。

可使用笼状来避免这种情况的发生。在加载时,会对来自笼状的射线进行追踪而不对来自低聚的射线进行追踪。

  • 笼状网格通常为低聚网格,显得稍微有些浮肿比其真实尺寸略大,覆盖了高聚和低聚网格(参看下图)。虽然即使是一个简单的盒子也会这样做。
  • 没必要覆盖所有的网格体积。可为局部笼状- 仅在发现的复杂几何细节面上。

Cage mesh
笼状网格
一个包含高聚和低聚模型的笼状(在网格观察器中查看)
例如如果我们在表面上使用铆钉设置了一个笼子,那么我们将获得所有细节正确的环境闭塞。如果没有笼子,就会出现视觉伪迹。

AO without the Cage meshAO with the Cage mesh
无笼状网格的AO 。细节未得到正确的烘焙。
有笼子网格的AO。所有铆钉都得到合适的闭塞。
注意
可通过Ctrl+C组合键加载笼状网格。
Load Env 加载环境网格。此选项可以加载额外的几何体,此几何体会将用于源网格的光线进行闭塞,进行遮蔽。对于环境网格自身,环境闭塞并未得到计算。

Environment mesh

环境网格
例如,如果闭塞网格是某些建筑物的一部分,那么后者可作为环境网格而得到加载。此处您可以看到网格毗邻更大的框架。有了此选项,网格背面将被进行遮蔽处理。

Occluded and Environment meshes from the backAO with the Environment mesh
来自背面的闭塞及环境网格
使用环境网格的AO
注意
可通过Ctrl+E组合键加载环境网格。
Normal Map 法线图可在不使用高聚网格的情况下对环境闭塞进行计算。其使用来自贴图的法线对光线照射到网格表面的方式进行计算。
  • 如果高聚合法线纹理都得到呈现,那么其将创建一幅更准确的环境闭塞图,图的边缘更柔和。

AO using only a Normal map

仅使用法线图计算AO
注意
可通过Ctrl+N加载环境网格。
Reload All 重新加载所有已加载过的资源。
注意
可通过 Ctrl+R组合键重新加载资源。
Run 执行环境闭塞计算。应用到模型上的结果可在 Ambient Map模式中进行查看。
Save 将计算的环境闭塞贴图保持为纹理。参看支持格式一文,此文讲述了纹理可被保持的格式。
  • DXT1 compression - 如果某种纹理被保存为.dds格式,使用此选项可将此纹理自动进行压缩。如果指定了另外一种格式,此选项会被忽略。
注意
可通过Ctrl+S组合键对网格进行保存。

可视化选项

可视化选项集:

Info 展示当前视窗口中的网格信息。这种数据会以许多表面,顶点和三角形的形式得以显示。
注意
可通过I键启用此选项。
Compass 在视窗的右上角切换XYZ指南针。
注意
可通过C键启用此选项。
Triangles 切换显示基础网格的平面。
注意
可通过 T键启用此选项。

环境闭塞选项

环境闭塞选项集:

Size 输出环境贴图的尺寸。
AA 用于输出环境贴图的抗混淆模式。如果使用此模式,会占用额外内存。
  • 值越高,环境贴图越软越模糊。

AO without AAAO with AA
无抗混淆的AO
使用抗混淆的AO
TexCoord 用于存储环境贴图的UV通道。为了能在第二个UV通道内存储贴图,模型也应相应地被导出。
Samples 取样光线的数量,从网格的每个点对这些光线进行追踪用来计算环境闭塞。如果某束光线照射到某些几何体上,这意味着光线被闭塞处理因此测试点应被遮蔽。如果返回的闭塞光线越多,最后的遮蔽效果就越暗。
  • 数值越高,环境贴图的纹理就越少,对其进行计算所花费的时间就越长。

Low value of SamplesHigh value of Samples
取样数 = 16
取样数 = 1024
Radius 对光线进行追踪的距离。确切地说,这是一个半球的半径,在此半径范围内取样光线的数量会在任意方向进行追踪。
  • 可使用小半径实现细节的尖锐暗黑闭塞。
  • 可使用大半径来获取整个网格的闭塞。不会存在明显的细节处。对AO的计算过程会花费更长的时间。

Small RadiusBig Radius
半径 = 0.1
半径 = 2
Power 环境闭塞项的能力值。值越高,最终的环境闭塞就越亮。

Low value of PowerHigh value of Power
能力值 = 0.1
能力值 = 3
Extrude 像素中的突出部分。此选项可在UV外壳的轮廓附近添加彩色像素。简单地将颜色值从邻近像素中拷贝出来。在缝隙连接区域,可使用此选项来处理可能变暗的地方。
  • 环境贴图的尺寸越小,沿着缝隙处的可见暗处就越多。增加Extrusion的参数值可以在这种情况下起到一定的作用。

Extrusion

Extrusion(突出)

No pixel extrusionWith pixel extrusion
突出 = 0 像素
突出 = 3 像素

支持的文件格式

支持的几何数据格式:

  • Unigine 网格(.mesh)
  • Unigine 蒙皮网格(.smesh)
  • 波前 (.obj)
  • 可拉大风 (.dae)

支持的纹理格式:

  • Targa (.tga)
  • 便携式网络图像格式 (.png)
  • JPEG (.jpg)
  • Photoshop 文件 (.psd)
  • 直接绘制表面 (.dds)
  • 便携式像素图 (.ppm)
  • 便携式Graymap (.pgm)
  • 高动态范围(.hdr)
  • Silicon 图形图像 (.sgi)

热键

  • Ctrl+O — 加载低聚网格
  • Ctrl+H — 加载 高聚网格
  • Ctrl+C — 加载笼状网格
  • Ctrl+E — 加载 环境网格
  • Ctrl+N — 加载 法线图
  • Ctrl+R重新加载 所有资源。
  • Ctrl+S保持 环境贴图。
  • I — 切换网格信息。
  • C — 切换XYZ指南针。
  • T — 切换基础网格。
  • G — 对从网格到相机的中心点进行重置。
最新更新: 2018-04-26